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    激光刻蝕機(jī)與化學(xué)、等離子刻蝕機(jī)的對比

    發(fā)布時間:2018-09-18 來源:元祿光電

    刻蝕就是用化學(xué)的、物理的或同時使用化學(xué)和物理的方法,有選擇地把沒有被抗蝕劑掩蔽的那一部分薄膜層除去,從而在薄膜上得到和抗蝕劑膜上完全一致的圖形。簡單點說就是通過刻蝕技術(shù)在薄膜上繪制不同的圖形,得到工藝要求的圖案。在半導(dǎo)體工藝,按照掩模圖形或設(shè)計要求對半導(dǎo)體襯底表面或表面覆蓋薄膜進(jìn)行選擇性腐蝕或剝離的技術(shù)。

     

    刻蝕技術(shù)分為干法刻蝕和濕法刻蝕,濕法刻蝕主要是指化學(xué)刻蝕,干法刻蝕主要指等離子刻蝕和激光刻蝕。

     

    濕法化學(xué)刻蝕

    濕法化學(xué)刻蝕主要利用化學(xué)試劑與被刻蝕材料發(fā)生化學(xué)反應(yīng)進(jìn)行刻蝕。這種刻蝕方法的優(yōu)點是適應(yīng)性強(qiáng),均勻性較好,適合于大部分材料;缺點是圖形刻蝕保真較差,刻蝕線寬不均勻難以掌控,切刻蝕線寬無法做到精密,因此對于消費電子領(lǐng)域精密度越來越高的要求下,逐漸被淘汰,被激光刻蝕所取代,但他價格相對便宜,適合于大批量生產(chǎn),在光伏行業(yè)中仍然占有一定量的占有率。

     

    干法刻蝕

    1.等離子刻蝕

    等離子刻蝕是指利用高頻輝光放電反應(yīng),將反應(yīng)氣體激活成活性粒子,如源自或游離基,這些活性粒子擴(kuò)散到刻蝕的部位,在哪里與被刻蝕材料進(jìn)行反應(yīng),形成揮發(fā)性生成物而被去除,達(dá)到刻蝕的目的。等離子科室的特點是能像異性刻蝕,能夠保證細(xì)小圖形的保真性。缺點是刻蝕的精度不夠,且設(shè)備昂貴。

     

    2.激光刻蝕

    激光刻蝕機(jī)是利用高能量激光光束照射到被刻蝕工件表面,使其融化、氣化,形成一定深度的凹槽,實現(xiàn)對材料刻蝕的目的。激光刻蝕的特點是刻蝕良品率高、穩(wěn)定性高,靈活性好,可以實現(xiàn)不同圖形不同角度的一次性成型技術(shù),且無耗材、無污染,成本低。相比較于濕法刻蝕,缺點是刻蝕速度比濕法刻蝕低,無法滿足超大批量的生產(chǎn)。因此在精度要求較低的行業(yè)中往往采用濕法刻蝕,在要求精度高的情況下往往都采用激光刻蝕手段。

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    激光刻蝕機(jī)

    激光刻蝕非常適合于消費類電子行業(yè)的刻蝕手段,如觸摸屏行業(yè)的銀漿刻蝕、ITO薄膜刻蝕等。在一些光伏行業(yè)如鋁箔膜、銅薄膜的一些高端領(lǐng)域中激光刻蝕技術(shù)的應(yīng)用較為廣泛。

     

    綜合比較結(jié)合市場實際情況來看,濕法刻蝕的市場正在一步步為激光刻蝕所取代,一方面是因為激光刻蝕技術(shù)越來越成熟,價格越來越便宜,另一方面,激光刻蝕技術(shù)的加工精密度越來越高,可以做到10微米以內(nèi),相比較而言激光刻蝕技術(shù)的優(yōu)勢就凸現(xiàn)出來。

     

    推薦設(shè)備:導(dǎo)電薄膜激光刻蝕機(jī)

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